一、温度管理
在温度管理方面除休眠期外，石榴树设施栽培还有花期和果实发育后期、果实着色期3个温度敏感期。
开花期：白天一般要求控制在18～30℃，不能高于35℃，但夜间温度应保持在15～20℃，否则花器发育畸形或受冻，温度过高会造成授粉受精不良。
果实发育后期：此时温度应控制在25～35℃，最高不超过38℃，并适当增大昼夜温差，可以提高果实品质。展叶及新梢生长期最适温度为18～23℃，最高温度28℃，最低温度10℃。
果实着色期：温度以28～30℃为宜，最高温度35℃，最低温度15℃。
二、湿度控制
设施内由于空间相对密闭和昼夜温差较大，容易造成夜间和阴雨天空气湿度过大。设施内土壤湿度可控性强，补充便捷，所以基础湿度必须控制在最小化程度，可以通过使用无滴膜，应用滴灌技术或膜下灌溉技术，适时采用通风换气、地面覆盖薄膜等方法解决设施内湿度过大的问题，以保证设施内石榴树和果实的正常生长发育。
对于全覆盖防虫网或棚膜半覆盖等大棚，可考虑棚内全园树体喷灌，用以淋洗石榴枝干、叶片部，增强光合作用。设施内的湿度过高，通风口应尽量加大，必要时可把薄膜全部揭除。
三、二氧化碳调控
设施内由于环境相对密闭，使得设施内外的气体交换受限，从而导致白天设施内的二氧化碳因光合作用的消耗而降低，使二氧化碳成为光合作用的限制因素。
目前，增加设施内二氧化碳浓度的措施主要包括通风换气、增施有机肥、施用固体二氧化碳气肥、化学反应法、燃烧法等方法。
设施栽培石榴时在果树生长发育旺盛阶段应采取上述办法补充设施内的二氧化碳含量，保证石榴正常的光合作用。
四、光照控制
设施内的光照控制，促成栽培要确保棚膜干净，充分利用日光增温；在开花坐果期，通过遮阳网的作用将棚内白天温度控制在25～30℃，促进授粉和坐果；在三伏天中午阳光最强的时候，适时关闭顶膜，以此阻挡强光对石榴果皮、籽粒的伤害，减轻石榴日灼病的发生。促成和延后栽培应采用合适光源进行补光。
五、土壤管理
石榴设施栽培集约化程度较高，环境相对密闭，灌水量减少，土壤肥水流失较少，无机盐量积累，多年后可引起土壤盐渍化，降低土壤肥力及缓冲作用，同时土壤有益微生物群落减少，使土壤有效矿物质元素下降，造成石榴生长发育异常。所以保持大棚内土壤的疏松透气，防止盐渍化，增加有益微生物菌群是大棚土壤管理的核心任务。
石榴设施栽培施肥种类以有机肥、生物肥为主，化肥为辅；施肥方法以基肥为主，追肥为辅；施肥时期以前期为主，后期补充为辅。
